公司现在研发的半导体设备，就是第三代光刻机。
在这里，有必要介绍一下光刻机的发展历程。
首先是光刻机的代际划分，其实是按光源算的，波长越短越先进。第一二光刻机分别是接触、接近式光刻机，光源是不同类型的汞灯，但一个产品不良率高，一个要用到介质容易影响成像，都不太理想。
直到第三代，光源改成了氟化氪准分子激光，工作方式变成了扫描投影光刻。一旦完成研发，制程最低将缩小到...
公司现在研发的半导体设备，就是第三代光刻机。
在这里，有必要介绍一下光刻机的发展历程。
首先是光刻机的代际划分，其实是按光源算的，波长越短越先进。第一二光刻机分别是接触、接近式光刻机，光源是不同类型的汞灯，但一个产品不良率高，一个要用到介质容易影响成像，都不太理想。
直到第三代，光源改成了氟化氪准分子激光，工作方式变成了扫描投影光刻。一旦完成研发，制程最低将缩小到...