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新科学时代

第114章 改造方案

新科学时代 康泓 2270 2020-09-12 21:58:34

  郭一连续好几天都在A1厂出没,寻找这可以提升芯片制造工艺的关键点。

  材料热膨胀相互的影响,光的衍射对于光刻的影响,线宽控制的几个常规改进,光学近距效应修正,硅片平台水平控制的关键因素,光刻胶涂胶工艺的改进……

  ……

  随着每天在工厂观摩推演芯片制造的整个流程,郭一的小本本上记满了各种可以对工艺有明显改进的方法。

  “安叔,召集工程师们,开会。”

  郭一虽...

康泓

还有一章,会稍晚一些,但会在12点之前。

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